Bộ Quang khắc chùm tia điện tử TESCAN Essence™ EBL thêm khả năng tạo mẫu nano đa năng và mạnh mẽ trên hệ thống TESCAN SEM và FIB-SEM
Bộ Quang khắc chùm tia điện tử TESCAN Essence™ EBL sử dụng chùm electron tập trung để vẽ trên bề mặt các mẫu đã được phủ một lớp màng nhạy với chùm điện tử (điện trở). Kỹ thuật này phổ biến để tạo nguyên mẫu các cấu trúc vi mô và nano với hình dạng, kích thước và thành phần vật liệu cụ thể trên các chất nền khác nhau để phát triển cảm biến, quang tử, plasmonics, điện tử học spin, MEMS, vi lỏng và các bề mặt để phát triển tế bào.
Việc thêm bộ TESCAN Essence™ EBL vào các thiết bị Kính hiển vi điện tử quét SEM và Kính hiển vi điện tử quét chùm ion hội tụ FIB-SEM thế hệ thứ 4 của TESCAN sẽ tạo ra một công cụ tạo mẫu nano đa năng với kỹ thuật quang khắc dựa trên chùm tia điện tử và chùm ion. TESCAN Essence™ EBL là giải pháp lý tưởng cho các phòng thí nghiệm cần nghiên cứu ứng dụng này nhưng không yêu cầu hệ thống quang khắc tiên tiến chuyên dụng. Hoạt động cùng với bộ đệm chùm tia tĩnh điện nhanh của TESCAN, mô-đun phần mềm EBL nâng cao có trong TESCAN Essence™ EBL kiểm soát toàn bộ quy trình quang khắc từ bên trong GUI Essence™.
-
Việc thêm quang khắc chùm tia điện tử vào SEM hoặc thậm chí là FIB-SEM đã tạo ra một giải pháp mạnh mẽ cho các ứng dụng tạo nguyên mẫu vi mô và nano vì các nhà nghiên cứu có thể tận dụng khả năng phân tích của SEM và FIB-SEM sau quy trình quang khắc để xác nhận cấu trúc, kích thước hoặc thành phần vật chất.
-
Thêm phần mềm EBL nâng cao và bộ đệm chùm tia tĩnh điện nhanh của TESCAN trên hệ thống SEM tiêu chuẩn để tạo ra một giải pháp hoàn chỉnh, tiết kiệm chi phí để thực hiện kỹ thuật quang khắc chùm tia điện tử cấp trung cấp
-
Tạo ra một công cụ tạo mẫu nano đa năng, mạnh mẽ bằng cách thêm khả năng EBL vào hệ thống TESCAN FIB-SEM để kết hợp EBL với các kỹ thuật quang khắc dựa trên chùm ion được điều khiển riêng cho cả các nghiên cứu cơ bản và ứng dụng
-
Kiểm soát quy trình EBL thông qua mô-đun phần mềm TESCAN Essence™ EBL được tích hợp đầy đủ, có giao diện người dùng phù hợp với GUI TESCAN Essence™
-
Hỗ trợ đầy đủ định dạng dữ liệu phân cấp GDSII được cộng đồng EBL sử dụng phổ biến nhất
-
Sử dụng khả năng của phần mềm TESCAN Essence™ EBL để tối ưu hóa các điều kiện phơi sáng và giảm thiểu lỗi hoặc khuyết tật
-
Giảm thời gian phơi sáng EBL bằng cách sử dụng điều khiển chùm tia điện tử tốc độ cao trong quá trình phơi nhiễm
-
Thiết lập thời gian để sử dụng thiết bị với chức năng ước tính thời gian phơi sáng